三星打造17nm LPV工艺：28nm＋14nm二合一
摘要：
半导体工艺不只是尖端的7/5/3/2nm，因为还有很多芯片并不需要太先进的制程，它们往往不太复杂，但对成本非常敏感。今天，三星宣布推出全新的17LPV 17nm工艺，意为Low Power Value。其实，它就是28nm工艺的进化版，融合了28nm BEOL后端工序、14nm FEOL前端工序，也就是在28nm节点的基础上，加入了14nm FinFET立体晶体管，只需不高的成本，就能享受后者的能效优势。
三星称，17nm LPV工艺相比传统28nm，芯片面积可缩小43％，可以带来39％的性能提升或者49％的能效提升。
三星17nm LPV工艺的量产时间没有说，但三星已经宣布第一个服务对象是ISP图像信号处理器，属于三星自家的CMOS传感器产品线。
此外，三星还打造了14nm LPU工艺，意味Low Power Ultimate，但未透露详情，可能也是28nm BEOL加上14nm FEOL。
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