ASML现在需要荷兰许可证才能向中国运输旧款DUV芯片设备

摘要:

今天,荷兰政府与美国结盟,扩大了对ASML公司生产的其他机器的监督,这使中国通过依赖旧机器来加强国内芯片制造的尝试遭到了打击。ASML最新的芯片制造设备使用紫外线打印电路,被称为EUV光刻机,早已经被荷兰和美国限制向中国出售。

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然而,这样一来,一些旧型号机器只受到美国的限制,这就引发了荷兰的主权问题,因为一个外国政府对荷兰制造的产品施加了影响。

在荷兰政府采取这一最新举措之前,截至今年 7 月,中国在芯片制造设备上的花费已达到创纪录的 260 亿美元。虽然美国和荷兰对 EUV 扫描仪的制裁实际上削弱了中国通过 3 纳米和 5 纳米等工艺技术制造尖端芯片的能力,但较老的 DUV 扫描仪却使中芯国际等中国公司得以制造 7 纳米芯片。

荷兰贸易部长 Reinette Klever 今天宣布了这一决定,并表示"由于技术的发展,这些特定生产设备的出口存在更多的安全风险"。有关机器是 ASML 的 TWINSCAN NXT:1980Di 和 TWINSCAN NXT:1970Di 工具,该公司在部长宣布后的一份声明中证实了这一点。

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1980Di 尤其侧重于多重图案化。ASML 网站上的扫描仪产品简介指出,该机器"可满足多重图案化要求,从而为我们的客户提供先进节点的高性价比解决方案"。

随着 1980i DUV 系统被列入荷兰政府的出口管制许可证要求清单,ASML 的第一级 DUV 产品组合已完全被许可证要求所覆盖。1980i 是最低端的 DUV 扫描仪,被称为浸入式机器。它们是业内使用最广泛的扫描仪,每天可生产 6000 多片硅晶片。这些机器还可以通过套件升级为下一代 EUV 扫描仪,今天的公告发布后,ASML 将不得不向荷兰政府申请出口这些机器的许可证,而不是向美国政府申请。

新规定明天生效,ASML 公司分享了这一消息,并补充说,由于该公司已就机器出口寻求美国政府批准,因此荷兰制裁对该公司的财务影响很小。

虽然超紫外设备为半导体制造工艺带来了一系列新的复杂性,但它们也降低了复杂性,因为芯片制造商可以使用更精细的光束在硅片上打印电路。通过老式的 DUV 机器进行多重图案化也能达到类似的效果。最新的一套规则似乎是针对中国的这种变通能力,而这种变通往往也是以降低产量和产品质量为代价的。

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