美商务部对ASML高端光刻机或流入中国表示关切
摘要：
路透社6月18日报道，美国商务部长霍华德·勒特尼克近日在一系列会晤中向荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）高层表示，美方担心该公司一台顶级芯片制造设备可能已经流入中国，从而违反了由美国主导的相关出口管制规定，这一消息最早由彭博社披露。
报道称，勒特尼克是在与这家荷兰企业高级管理层会谈时提出上述关切的。 对此，ASML方面予以反驳，强调用于生产超微细芯片电路的极紫外（EUV）光刻系统产量极其有限，而且在整个生命周期中都需要ASML工程师持续维护，因此设备的流转高度可控。
根据报道，ASML最先进的EUV系统体积相当于一辆校车，重量约180吨，被视为当前高端芯片制造产业链中的关键“卡脖子”装备。 一名ASML发言人被彭博社援引称：“ASML从未向中国出售过任何一台EUV光刻机，也未向中国出口过任何专门为EUV设备设计的部件、模块或设备。”
对于相关报道和说法，美国商务部、ASML以及白宫在路透社于正常办公时间之外联系时均未立即作出回应。 路透社此前在去年12月曾报道，中国科研团队在多名ASML前工程师的参与下开发出一套EUV原型机，此举被描述为中国在高端芯片制造领域的“曼哈顿计划”式攻关项目。
