据外媒报道，台积电在最近举行的年度技术研讨会上透露了大量有关该公司的信息，尤其是有关其芯片制造业务未来的信息。这些信息包括有关N5、N4、N3和N12e等先进工艺节点的新细节，这些节点将在未来几年为许多设备提供动力。不过，台积电也透露了自己在尖端制造实力中的地位。

根据Ian Cutress博士的报告，台积电目前占到行业EUV（极紫外光）设备安装数量的50%。此外，台积电还宣称其EUV晶圆产量占整个行业累计产量的60%。

台积电的N7+工艺是该公司第一个使用EUV光刻技术的节点，而该公司的N5工艺将进一步利用EUV技术。此外，任何超5nm的器件都将广泛依赖EUV光刻技术。目前，除了台积电的N7+和N5，三星也有其7LPP工艺并有望利用EUVL。

ASML是唯一一家生产和销售EUV光刻设备的公司，据Cutress估计，台积电已经从这家公司手中购买了30-35台设备。据估计，ASML今年已售出约70台机器，等到底可能会达到90台。

最近，台积电庆祝了10亿多块无缺陷7nm芯片的出货。