IBM公司近日宣布其名下的芯片制造厂中将停止使用全氟辛烷磺酰基化合物（PFOS）和全氟辛酸（PFOA）两种有毒有害化合物。多年前，在欧盟以及其它 一些国家的环保部门出台限制使用这两种化合物的法规之后，美国环保署也出台了限制在消费级产品的生产过程中使用这两种化合物的法规，这两种化合物一般用于 防污和防潮处理。不过在半导体制造产业中，仍允许使用这两种化合物，半导体制造的光刻和蚀刻工步需要少量使用这两种化合物。经过10多年的努力，IBM终于找到了这两种有毒化合物的替代用品。
IBM公司主管微电子事物的总经理Michael Cadigan称：“开发这类化合物替代品的工作是一项相当艰难的任务。我们需要验证采用新配方后的每一个制造环节都不会出问题，而且还不能影响到我们产品的质量和供货能力。”他还介绍说：“由于IBM与多家厂商结成了开发联盟，因此至少还有五个国家里的多家半导体厂商都可以使用我们这次开发出来的无毒化合物进行生产。”
CNBeta编译
原文：eetimes