多年来，我们已经看到很多前雇员窃取其前公司严密保护的商业机密并将知识产权转移到其他地方的事件，但试图复制整个半导体工厂是一件新鲜事。 如果这还不够大胆，模仿设施甚至将建在距离原始设施不到一英里的地方。

一名前三星电子高管因窃取这家芯片公司的蓝图和设计以试图在中国创建一家半导体工厂的精确复制品而被捕并被起诉。 韩联社报道称，这名不愿透露姓名的 65 岁男子被控违反韩国《工业技术保护法》和《防止不正当竞争法》。

该男子被指控在 2018 年 8 月至 2019 年期间窃取商业机密，包括芯片工厂基本工程数据 (BED) 以及工艺布局和设计图纸，因此可以在提供支持的情况下在北方城市西安复制一家这样的工厂，在这过程中需要 BED 数据以确保制造设施中不存在杂质。有趣的是，有可能使用这一图纸的工厂将建在距离现有设施 1.5 公里（不到一英里）的地方。

一家身份不明的台湾公司曾承诺向该项目投资 62 亿美元，但未能兑现。 相反，这名男子从一群中国投资者那里获得了 3.58 亿美元，并开始在成都的一家芯片厂生产试用三星技术的产品。

在转到另一家公司之前，被告在三星工作了 18 年。 他利用中国和台湾投资者的资金在中国和新加坡创建了芯片制造公司。 他还从三星和 SK 海力士雇佣了大约 200 名员工。

据称三星因盗窃损失了约 2.33 亿美元。 其他六人，包括三星电子的一名员工和前高管创立的一家中国芯片制造商的五名员工，也因串通涉嫌技术泄露而被起诉。

今年早些时候，美国司法部宣布了颠覆性技术打击力量计划，其中有五起案件涉及出口和商业机密违规行为。 其中一个涉及一位前苹果软件工程师，他窃取了与库比蒂诺自动驾驶汽车项目相关的商业机密，然后才在中国的同一行业找到工作。