9月21日，国产刻蚀机龙头中微公司发布关于副总经理、核心技术人员变动的重要公告。倪图强因个人原因，申请辞去公司副总经理、核心技术人员职务。杨伟因个人原因，申请辞去公司核心技术人员职务。辞职后，倪图强和杨伟仍在中微公司任职。

公告提到，根据《公司法》、《公司章程》的规定，上述辞职报告自送达董事会之日起生效。上述事项不会影响公司的正常运转。

▲中微公司公告部分截图

倪图强和杨伟均于2004年8月加入中微公司。现任中微公司副总经理、核心技术人员的倪图强，1962年生，美国国籍，中国科学技术大学学士、硕士，美国德州大学博士、博士后，其直接持股0.123%。现任中微公司核心技术人员的杨伟，1966年生，美国国籍，西安交通大学学士、硕士，直接持股0.073%。

中微公司的声明中提到，该公司主要从事高端半导体设备的研发、生产和销售，涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED生产、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域。截至2024年6月底，该公司共有研发人员967名，占公司总人数比例为46.38%，涵盖了等离子体物理、射频及微波学、结构化学、微观分子动力学、光谱及能谱学、真空机械传输等相关学科的专业人员。

本次核心技术人员的变动不存在涉及职务发明等纠纷，不会对公司现有项目研发进展、持续经营能力、核心竞争力产生重大不利影响，亦不影响产品研发和市场拓展进度。

本次变动后，中微公司的核心技术人员数量从9名减少到7名。本次变动前后核心技术人员具体如下：