继今年5月11日宣布其32nm LP
HKMG制程技术通过全面验证之后，南韩三星电子公司本周一宣布已经完成了对其28nm低功耗HKMG制程（28nm
LP）的验证工作，这项技术已经可以用于生产制造芯片产品。三星表示，相比前代45nm LP制程，其28nm
LP制程产品在同等运行频率下的工作状态功耗以及待机状态功耗可减少35%；而在产品的漏电量处于同一水平的条件下，后者的性能则可提升30%幅度。另外，三星还为其28nm产品阵营添加了一位新成员--28nm LPH，同样采用HKMG技术制作。三星表示，公司的28nm LP/LPH制程可以为芯片设计者提供更加多样化的选择方案。
这次新增加的28nm LPH制程专为移动设备应用设计，采用这种制程技术的芯片运行频率据称可超过2GHz。相比现有的45nm LP SoC制程，新的28nm LPH制程在同等运行频率下的工作状态功耗可降低60%；而同等漏电量条件下的性能则可提升55%。三星还表示目前已可向外提供28nm LPH制程的芯片样品。
CNBeta编译
原文：eetimes