极紫外光刻技术是近年来最复杂的技术创新之一。 极紫外光刻设备对于生产更小、更强大的微芯片至关重要，但其耗电量巨大。 更糟糕的是，它们对电力的渴求预计在未来几年只会大幅增长。

根据 TechInsights 最近的一份报告，到 2030 年，配备 EUV 工具的晶圆厂每年的耗电量将超过54000 千兆瓦时 (GWh)。 从这个角度来看，这比新加坡或希腊等小国的总用电量还要多。

荷兰公司 ASML 是目前世界上唯一一家生产 EUV 光刻机的制造商，这种工具需要大量的投资和努力才能集成到芯片制造操作中。 在台湾、韩国、日本、美国、德国和爱尔兰等国家和地区，都有使用 EUV 系统进行大批量生产的工厂。

当前一代 EUV 工具的功耗高达 1170 千瓦，而下一代High-NA EUV 光刻机的功耗预计将达到 1400 千瓦左右。

TechInsights 目前列出了 31 家采用 EUV 设备进行芯片制造的工厂，预计到 2030 年底还将有 28 家工厂投入使用。

虽然 EUV 光刻机耗电量很大，但只占整个芯片制造厂总能耗的 11%。 到 2030 年，59 家配备 EUV 功能的芯片制造厂预计每年将消耗 54000 千兆瓦的电力，相当于拉斯维加斯大道所需电力的 19 倍。

随着全球晶圆代工企业迅速采用 EUV 机器，TechInsights 警告说，这一趋势将对环境产生重大影响。

该报告还为芯片制造巨头们提供了潜在的有用建议，因为他们很快就将面临持续创新与重大能源影响之间的十字路口。 报告指出，该行业应加大对节能技术和可再生能源的投资力度。 尽管重开关闭已久的核电站似乎不是最环保的选择，但有关这一问题的讨论仍在继续。