Suss Microtec公司日前正式加入IMEC组织的EUV研发项目，他们将负责研发生产环境下EUV用掩膜板的完整性保持技术。2009年，Suss公司曾 与IMEC组织就掩膜版的清洁工艺方面进行过合作，而这次合作则将以此为基础展开。这次合作的目的则是开发出一整套完善的EUV光刻用掩膜版管理系统，并 研发出一种能够保证EUV掩膜板在被用于曝光之前保持完整性的高级技术方案。由于EUV 13.5nm波长光很容易被吸收，因此不仅EUV光刻机内部必须保持真空环境，所有的镜片都需要设计为反射镜而非折射透镜形式，掩膜版也必须采用反射型设计，不仅如此，以往用来防止掩膜板被污物沾染的掩膜板保护膜（pellicle）也必须取消，而没有了保护膜的防护，显然很难保证EUV用掩膜板的清洁程度，其对污物沾染的敏感性也增加不少。为了抵消这个问题可能造成的影响，就必须增加掩膜板清洗的频度。不仅如此，掩膜板背面的污物沾染情况也需要加以考虑，当背面沾有污物的掩膜板安装到光刻机上时，很容易令光刻机中的掩膜板夹具也沾染上污物，如此就很容易造成套准精度恶化，而清除夹具通常则意味着光刻机必须停止工作，造成停线并导致维护成本增加。

2009年，Imec组织曾经在其300mm芯片厂中安装了Suss制造的MaskTrack Pro掩膜板清洁系统，双方当时在EUV掩膜板清洁工艺方面的过程控制工具（POR，类似于汽车行业控制计划一类的东西）方面取得了不少成果，在掩膜板污物清除的有效性和效能可重复性方面效果很好。改善的重心转移到晶圆背部之后，他们成功在ASML生产的alpha demo tool EUV光刻机所用掩膜板上达到了80%的最高污物移除率；而要想将移除率进一步提升到100%，则需要杜绝在晶圆夹持传送和储存的过程中产生的污染物，这就必须保证掩膜板在厂内使用过程中必须采取更严格的管制环境措施。目前为止，Imec已经在其厂内的NXE:3100 EUV光刻机上采用了Suss的InSync工厂管理系统。EUV掩膜板被自动送入和送出双盒容器（Dual pod）中；其中内层盒可以储存在InSync系统的环境下。InSync系统则可直接从掩膜板用容器内接受掩膜板，并直接将其传送到掩膜清洗工具上去。

CNBeta编译
原文：electroiq