尔必达在5月底即开发完成25nm制造工艺，使用此工艺制造的内存颗粒芯片面积目前世界最小。比起30nm工艺制造的产品正常运行功耗降低15%，待机时降低约20%。传输速度可达1866Mbps以上，创造了业界最高纪录。
该内存颗粒的正常工作电压为1.5V，也有1.35V的低电压版本。可在0-95摄氏度范围内正常工作。新产品主要用于制造面向PC以及数据中心中服务器使用的内存，面向游戏主机，超薄笔记本电脑，智能手机及平板电脑的25nm制程产品也在顺次开发中。
EDJ2108BFSE
尔必达在5月底即开发完成25nm制造工艺，使用此工艺制造的内存颗粒芯片面积目前世界最小。比起30nm工艺制造的产品正常运行功耗降低15%，待机时降低约20%。传输速度可达1866Mbps以上，创造了业界最高纪录。
该内存颗粒的正常工作电压为1.5V，也有1.35V的低电压版本。可在0-95摄氏度范围内正常工作。新产品主要用于制造面向PC以及数据中心中服务器使用的内存，面向游戏主机，超薄笔记本电脑，智能手机及平板电脑的25nm制程产品也在顺次开发中。
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