韩国芯片代工巨头三星正在开发基于量子计算与人工智能的光刻仿真技术，用于优化芯片制造流程中最关键的环节之一——光刻与刻蚀工序，从而在成本与时间上缩短与台积电的差距。韩国媒体报道称，三星计划借助该技术提升晶圆良率和芯片单元面积上的晶体管密度，将在明年推动相关算法的概念验证测试。

在半导体制造流程中，光刻几乎决定了一条制程节点的成败，被视为整个工艺链条中首要且最关键的步骤。高端光刻机（业内通常称为扫描仪）负责将电路版图精确投射并转印到晶圆表面，对先进工艺而言，这一环节需要依赖荷兰企业 ASML 提供的极紫外（EUV）光刻设备，以极短波长的光绘制出纳米级线宽和器件结构。

正因如此，光刻工艺的优化程度往往直接影响制程的可量产性和经济性。据《首尔经济日报》援引消息人士透露，三星正在开发一套面向光刻环节的量子计算算法，目标是在仿真环境下细致评估并调优版图设计与曝光条件，从而在晶圆层面兼顾密度与良率表现。在半导体行业中，“良率”通常指一片晶圆上最终可出货的合格芯片数量，而“密度”则是单位面积可容纳的晶体管数量，两者共同决定了工艺节点的竞争力和成本结构。

根据曝光的细节，三星的方案分为两个核心步骤。首先，企业将利用量子计算机运行自研算法，对光刻流程进行高精度仿真，包括掩模版图、曝光参数以及光学/化学过程中的各种误差与变形。在仿真完成后，系统会调用人工智能模型自动识别潜在缺陷和工艺偏差，并给出修正建议，用于改进版图设计或工艺配方。

消息人士称，三星已完成相关算法的开发工作，当前正推动将其在量子计算平台上落地，并计划在明年完成“概念验证”（Proof of Concept）阶段的验证。这套仿真与优化软件由三星集团旗下负责数字与 IT 业务的子公司 Samsung SDS 负责研发，若最终被证明可行，将有望在内部推广至三星电子等核心制造实体，用于支撑先进工艺节点的开发与量产爬坡。

值得注意的是，人工智能技术在半导体制造领域已不再是新鲜事。以台积电为例，这家来自台湾的代工龙头已经在节点开发和工艺优化环节大量引入 NVIDIA 的 AI 技术，用于分析复杂工艺数据、预测设备维护节奏以及优化生产排程。三星此番引入量子计算并叠加 AI 的组合，被外界视为在新一轮“智能制程”竞赛中的重要布局，也显示出代工厂在先进节点时代争夺工艺话语权的焦点，正在从单纯设备投入转向算法与算力的综合竞赛。