麻省理工学院(MIT)的研究人员发现了一种新方法,可在微芯片上蚀刻出36纳米的线路,可望对芯片制造产生重大影响.
此项研究是由MIT电子研究室、化学工程和电机工程学系的科学家们所共同进行,结果已发表于4月10日出刊的科学(Science)杂志上.利用这项技术,研究人员可产生出只有36纳米宽的线路.此技术是利用不同波长的光线,使一种特殊材料能在透明与不透明之间转换,以产生线路.此材料并非一种全新材料,只是研究人员发现了一种新方式,可使其用来产生具有极细透明线路的光罩,然后再将此光罩用来产生晶圆上的相应线路.

能够产生极细线路对许多新科技来说,都是非常重要的.从日益微缩的芯片制造到新兴的纳米图案都用得到.但这些技术都面临基本的限制,因为必须依赖光源来产生图案,而现有用来产生图案的技术,都无法制作出比光源本身波长小很多的线路.但现在,MIT的研究人员突破了这项限制.

此技术的关键在于利用干扰图案,也就是不同波长光线所造成的加强与抵销效果.研究人员将光学变色(photochromic)材料暴露在一组具不同波长光线的干扰图案中,便能够在不透明材料上形成极细的透明线路.

研究人员称这项技术为“吸光模组”(absorbance modulation),可用来产生约光波长十分之一的线路.此技术的重点之一,是要找到适合的光学变色材料,能在暴露于光线下时,形成稳定的透明与非透明图案.

MIT表示,这项技术除了会对芯片制造产生重大影响,也能为许多新兴的纳米领域带来全新发展.目前已有一家公司与MIT合作持续开发这项技术,MIT表示,希望能在五年内将其商业化.

此外,MIT表示,目前研究团队正试图将此技术用在影像系统,有可能进一步开创出拥有纳米级解析度的全新显微镜,可用在生物科技与材料科学的研究.同时,研究团队还在探索,这项技术是否有可能产生分子级的更细线路.