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台积电40nm制程良率再遇麻烦，一度降至40%
发布日期:2009-10-31 06:16:15  稿源：
台积电40nm制程良率最近似乎又遇到了麻烦，据台积电公司的主席张忠谋称，10月初开始该公司40nm制程的良率降至40%左右，公司计划于年底前解决 这次良率下降的问题。由于这次良率下降事件发生的时间段与AMD HD5800/5700系列以及Nvidia Fermi架构显卡上市热卖的时间段重合，因此预计市场上的有关显卡产品的供货可能会受到一定的影响。
近几个月以来有关台积电40nm制程良率的负面新闻一直不绝于耳，在7月份的2009股东会议上，台积电主席张忠谋曾透露称其40nm制程的良率相比二季度已经有较大的提升，他还透露今年二季度，台积电的40nm制程良率只有20-30%左右。

在最近举行的10月份股东会议上，台积电CFO Lora Ho表示：“由于市场对40nm/65nm制程技术的强劲需求，台积电2009年的资本性支出进一步增加到27亿美元左右。”今年第四季度，台积电在制造设备方面的投资额将达到13.4亿美元左右，比上一季度的9.71亿美元和二季度的2.24亿美元均有增长。

CNBeta编译
原文：fudzilla
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