据国外媒体报道，新墨西哥大学专利机构STC日前向新墨西哥区美国地方法院提起诉讼，指控英特尔侵犯了其一项与先进芯片制造相关的专利。
该专利的专利号为6042998，是一项有关双图形光刻技术的专利。双图形光刻技术对小尺寸芯片的生产至关重要。当前，为适应体积越来越小产品的需要，芯片上的半导体和其他元件的体积也越来越小，全球芯片制造商一直在寻求新的方法制造芯片。STC发表声明称，东芝、三星电子和台积电等五家公司目前已经与STC签署了使用这项专利的许可协议，STC此次起诉英特尔，旨在保护新墨西哥大学、专利发明人，以及专利被许可人的利益，同时也确保STC能够获得英特尔因非授权使用这项先进技术应给予的补偿。

英特尔没有立即就此发表评论。

STC称，STC原来并不打算诉诸法律来解决这个问题，之所以这样做，是因为在与英特尔取得联系后，问题并没有达到很好解决，STC现在别无选择，只能利用法律手段来解决这个问题。STC在诉讼中要求法院判定英特尔侵权，并赔偿因此造成的损失。