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深圳的“北方华创” 新凯来发布5大核心设备
发布日期:2025-03-28 01:39:23  稿源:芯极速

在上海国家会展中心举行的2025中国国际半导体设备和材料展(SEMICON China 2025)上,深圳新凯来工业机器有限公司(SiCarrier,以下简称“新凯来”)成为全场焦点。新凯来通过照片和模型的方式展示了其多款产品,其中最受关注的五大核心设备,均以中国名山命名,技术对标国际顶尖水平。包括:

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外延沉积设备EPI“峨眉山”:专攻第三代半导体(SiC、GaN)材料,支持1200V-6500V高压芯片制造,与深圳第三代半导体创新中心中试线协同验证;EPI外延层是半导体制造中的重要技术。

刻蚀设备ETCH“武夷山”:搭载自研静电卡盘专利(CN119069414A),表面电荷释放速度提升40%,良率显著提升;ETCH蚀刻是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一道相当重要的步骤。

薄膜沉积设备CVD“长白山”:集成反射结构专利(CN119620268A),体积缩小30%的同时效率提升,已通过ISO 9001认证;CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一。

物理气相沉积设备PVD“普陀山”:适配12英寸晶圆,定位精度达±1.3μm,性能对标国际主流。

原子层沉积设备ALD“阿里山”:支持7nm以下先进制程,已通过中芯国际(深圳)产线验证。

这是新凯来自成立以来,第一次向外界大规模进行产品与技术展示。新凯来称其设备“100%自主可控”,包括机器控制系统、关键元件等,全都为自主研发或通过战略合作伙伴取得。此次虽未官宣设备可支持制程节点,但有现场工作人员透露,包括未列入产品清单的蚀刻工具在内,部分设备已可支持到5纳米制程。


图源:新凯来

去年3月,彭博社称,华为与一家名为“新凯来”的半导体设备厂商,为一种技术复杂度低,但能有效制造先进芯片的方法,申请了专利。这种方案在没有极紫外光的支持下,通过多重曝光,尝试生产5nm芯片。

资料显示,新凯来工业机器成立于2022年,母公司新凯来技术有限公司成立于2021年,由深圳市重大产业投资集团全资控股,而后者隶属深圳国资委。深圳市重大产业投资集团也是鹏芯微以及昇维旭等的主要支持者。

近日,新凯来宣布已完成13类关键量检测产品开发,并在国内逻辑、存储和化合物的主要半导体制造企业开始量产应用。新凯来量检测装备产品线总裁郦舟剑在接受媒体采访时表示,“当前首要解决先进制程问题,国外工艺节点已经走的更领先,我们也会朝这个方向持续地努力,这需要时间,但我们有信心。”

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